Red Nacional de Metrología: Seminario "Cuarta revolución Industrial. Impactos en las mediciones".

El decano de la Facultad Tecnológica, Dr. Julio González Candia, dio inicio a la actividad con algunas palabras, destacando la relevancia de las ciencias de la metrología y el aporte que busca ser la Universidad de Santiago a través de éstas actividades de discusión y reflexión.

“Es importante destacar los protocolos de trabajo y colaboración entre la Universidad de Santiago y el Instituto Nacional de Normalización, para el desarrollo de un trabajo conjunto y colaborativo para abordar temáticas en esta materia. Este seminario permitirá generar la reflexión acerca de la importancia de la metrología en los sistemas de calidad y cómo ésta constituye una palanca para el desarrollo para la competitividad del país”, comentó.

 

Charlas

El seminario dio inicio con la exposición “Importancia de la Metrología en la Infraestructura de la Calidad del país”, a cargo del Sr. Pedro Ibarra, jefe de división de Metrología del INN y moderador del encuentro, quien habló sobre la importancia de esta área para el desarrollo sostenido de un país, destacando que dentro de la Infraestructura de la calidad, los tres pilares principales son la metrología, acreditación y normalización, distinguiéndose la metrología como pilar base de la IC por ser la ciencia que entrega los números y datos que permiten desarrollar las normas que más tarde se traducirán en certificaciones o acreditaciones.

Respecto a la situación en qué se encuentra Chile dentro del contexto internacional señaló “bastante bien, fuimos socios fundadores de la ISO por lo tanto tenemos un rol principal. Trabajamos directamente con los comités de normalización en los distintos sectores industriales. Entonces el rol ahí es clave, de primera línea.

El seminario continuó con la exposición “Cuarta Revolución Industrial. Mirada desde la Metrología Química”, dictada por William Güin, metrólogo experto y asesor de la división de Metrología del INN. La charla abordó los cambios y nuevos desafíos a los que se enfrentan las industrias con la tecnología inteligente que día a día se instala en más espacios de la sociedad.

“Toda esta cuarta revolución industrial va a cambiar los propios análisis químicos en la parte de metrología de mediciones y esto tenemos que entenderlo ahora. Las industrias serás más rápidas, eficientes y más baratas, cosa que ya se está dando en Alemania”, mencionó.

La tercera exposición “Midiendo la Infraestructura de la Calidad. Uso de Inteligencia Artificial dada por Gerardo González, metrólogo físico y también parte de la división de metrología del INN, trató sobre la correlación entre el desarrollo de la infraestructura de la calidad y el crecimiento económico de un país.

“El impacto en la infraestructura de la calidad es directo ya que promueve el movimiento libre de bienes y servicios, reduce las barreras técnicas y las barreras arancelarias. Esto tiene una relevancia importantísima en los tratados de libre comercio. La IC es un gran piso para establecer la igualdad entre nosotros, es una medida que nos permite compararnos y confiar entre países”, mencionó.

Las últimas ponencias fueron “Biometrología y los nuevos desafíos en los ensayos de laboratorio”, dictada por Esteban Paredes-Osses, profesional del Instituto de Salud Pública, quien abordó el campo de la metrología asociado a la biología molecular; e “Importancia de la Red Nacional de Metrología para los desafíos futuros”, por Celestino Meneses, metrólogo y jefe SGC ISO 17025 de Intronica Ltda., quien destacó la importancia de la Red Nacional de Metrología y el rol que deben cumplir las universidades chilenas y sus estudiantes, quienes serán los encargados del desarrollo de ésta área en un futuro.

 

Fecha: 
Jueves, 14 Junio, 2018